常用的等離子體激起頻率有三種：激起頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。不平等離子體發(fā)生的自偏壓不一樣，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只要幾十伏，而且三種等離子體的機制不同。
 

　　超聲等離子體發(fā)作的反響為物理反響，射頻等離子體發(fā)作的反響既有物理反響又有化學反響，微波等離子體發(fā)作的反響為化學反響。超聲等離子體清洗對被清潔外表發(fā)生的影響大，因而實踐半導體生產(chǎn)使用中大多選用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。而超聲等離子則使用于外表除膠、毛刺打磨等處理方面作用佳，典型的等離子體物理清洗工藝是在反響腔體中加入氬氣作為輔佐處理的等離子體清洗;氬氣自身是惰性氣體，等離子體的氬氣不好外表發(fā)作反響，而是經(jīng)過離子轟擊使外表清潔。典型的等離子體化學清洗工藝是氧氣等離子體清洗。經(jīng)過等離子體發(fā)生的氧自由基十分生動，簡單與碳氫化合物發(fā)作反響，發(fā)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，然后去除外表的污染物。

　　以物理反響為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕(SPE)或離子銑(IM)，其優(yōu)點在于自身不發(fā)作化學反響，清潔外表不會留下任何的氧化物，能夠保持被清洗物的化學純凈性，還有一種等離子體清洗是外表反響機制中物理反響和化學反響都起重要作用，即反響離子腐蝕或反響離子束腐蝕，兩種清洗能夠互相促進，離子轟擊使被清洗表面發(fā)生損傷削弱其化學鍵或許形成原子態(tài)，簡單吸收反響劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更簡單發(fā)生反響。選用40KHZ超聲等離子再加入適當?shù)姆错憵怏w，能夠有效去除膠質(zhì)殘渣、金屬毛刺等等，因為40KHz為較早的技術，其射頻匹配后能量消耗過大，實踐作用到清洗物上的能量不足原有能量的1/3。 所以實踐使用中大多選用13.56MHz射頻等離子體清洗，這個頻率也是現(xiàn)在國際上流行的。2.45G的微波等離子大多使用于某些有特殊需求的科研及試驗室。