表面處理是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機(jī)械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿(mǎn)足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。 等離子體是常用的一種材料。

　　達(dá)因特等離子材料表面處理設(shè)備進(jìn)行各種材料表面處理,處理速度和處理寬度 是多少,等離子表面處理設(shè)備噴嘴的處理寬度為約30-12 毫米,較之于活化工藝,清洗速度可達(dá)每秒幾毫米.

　　在常壓等離子體技術(shù)中，氣體在常壓下借助高電壓被激發(fā)，并點(diǎn)燃等離子體。借助壓縮空氣從噴嘴中將等離子體噴出。共分為兩種等離子效應(yīng)：等離子表面處理設(shè)備是通過(guò)等離子射流中所含的活性粒子進(jìn)行活化和精密清洗。此外，借助經(jīng)壓縮空氣加速的活性射流可以去除表面散落的、附著性顆粒。改變諸如處理速度和至基材表面的距離之類(lèi)的工藝參數(shù)，會(huì)對(duì)處理結(jié)果造成不同程度的影響。

　　等離子體-表面技術(shù)的一項(xiàng)重要工藝便是等離子清洗。通過(guò)與電離氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以及經(jīng)壓縮空氣加速的活性氣體射流，將污物顆粒除去，轉(zhuǎn)換為氣相，并通過(guò)真空泵用連續(xù)氣體流將其排出。由此所獲得的純度等級(jí)較高。在發(fā)生氧化銅還原反應(yīng)時(shí)，氧化銅與氫氣的混合氣體-等離子體接觸，氧化物會(huì)發(fā)生化學(xué)還原反應(yīng)，并生成水蒸汽。該氣體混合物中含有 Ar/H2 或者 N2/H2，所含的 H2 大含量低于 5%。對(duì)于常壓等離子體而言，其發(fā)揮作用的時(shí)候具有*的氣體消耗量。

　　等離子材料表面處理設(shè)備進(jìn)行處理能夠?yàn)槲覀儙?lái)哪些主要優(yōu)勢(shì)？技術(shù)適用于在線(xiàn)工藝，例如，在對(duì)連續(xù)型型材、管件進(jìn)行包護(hù)、膠粘，粘結(jié)或者涂層之前進(jìn)行等離子清洗。該項(xiàng)技術(shù)適合用于機(jī)器人，也就是說(shuō)，借助機(jī)器人可用等離子射流對(duì) 表面進(jìn)行掃描。通過(guò) 等離子表面處理設(shè)備可以進(jìn)行局部的表面清洗，不會(huì)接觸其余表面部分，例如，在焊線(xiàn)（引線(xiàn)焊接）前對(duì) Al, Au 和 Cu 材質(zhì)的焊盤(pán)進(jìn)行清洗，無(wú)需接觸表面的其余部分。